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产品名称:实验型磁控MSP系列

产品类别:设备仪器,真空、镀膜、冷却、气体处理设备

应用行业类别:军民融合,惯性技术

单位名称:北京创世威纳科技有限公司

产品描述

真空系统 分子泵系统
真空室数量 2个(溅射室、Load-lock室),样片自动送取
机械手形式 折叠机械手、直线机械手
溅射靶规格 Φ50 mm,Φ60 mm,Φ75 mm,Φ80 mm,Φ100mm
溅射靶数量 2-4个
磁控靶安装形式 MSP-3200:上置倾斜安装,自上而下溅射
MSP-3200T:下置倾斜安装,自下而上溅射
膜层结构 单层膜、多层膜、共溅射生长混合膜
电源标准配置 直流、射频
电源选配 直流脉冲、中频;直流偏压、射频偏压
样品数量及尺寸 单片、Φ2-6英寸
样品台旋转 1-25rpm、转速连续可调
样品加热 标准加热器,室温-400度,控温精度±1%
溅射不均匀性 ±3%~±5%
溅射速率 与材料和工艺相关,可向厂家询问
磁性薄膜制备 可选配
高温加热器 可选配
膜厚监控系统 可选配
氧化溅射系统 可选配
氧分压闭环控制系统 可选配
非标准磁路模块 可选配
Load-lock室射频清洗模块 可选配
关键部件 可选配进口、国产
人机界面 Windows风格界面、触摸屏操作
操作方式 全自动方式、半自动方式
请向厂家索取样本及详细技术资料
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