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产品名称:MSP-6000系列

产品类别:设备仪器,真空、镀膜、冷却、气体处理设备

应用行业类别:军民融合,惯性技术

单位名称:北京创世威纳科技有限公司

产品描述

真空系统 分子泵系统、低温泵系统
真空室数量 3-4个 (溅射室、双Load-lock室,清洗室可选配)
样品盘线性连续运动模式
溅射靶规格 (400mm-800mm)×100mm, (900mm-1300mm)×150mm
溅射靶数量 1-4个
磁控靶安装形式 上置安装,自上而下溅射
下置安装,自下而上溅射
上下交错安装,双面溅射
膜层结构 单层膜、多层膜
电源标准配置 直流、射频
电源选配 直流脉冲、中频;直流偏压、射频偏压
样品尺寸 400mm×400mm -1300mm×800mm(视磁控靶尺寸及样品情况定制)
样品盘装载量 8盘/炉
样品盘运动速度 2mm/s - 20mm/s,连续可调
样品加热 标准加热器,室温-200度,控温精度±1%
溅射不均匀性 ±3%~±5%
溅射速率 与材料和工艺相关,可向厂家询问
磁性薄膜制备 可选配
高温加热器 可选配
膜厚监控系统 可选配
氧化溅射系统 可选配
氧分压闭环控制系统 可选配
清洗室 可选配。射频清洗模式、离子源清洗模式:可选
关键部件 可选配进口、国产
人机界面 Windows风格界面、触摸屏操作
操作方式 全自动方式、半自动方式
生产模式 8盘连续生产
请向厂家索取样本及详细技术资料
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