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产品名称:MSP-5100系列

产品类别:设备仪器,真空、镀膜、冷却、气体处理设备

应用行业类别:军民融合,惯性技术

单位名称:北京创世威纳科技有限公司

产品描述

真空系统 分子泵系统、低温泵系统
溅射靶规格 400mm×100m~1000mm×150mm
溅射靶数量 3~4靶
磁控靶安装形式 立式安装
磁路类型 平衡磁场,可选非平衡磁场
膜层结构 单层膜、多层膜
电源标准配置 直流、射频
电源选配 直流脉冲、中频、直流偏压、射频偏压
样片尺寸及装载量 依据靶尺寸及样品尺寸定制。例:450mm×100mm磁控靶,(50.8×50.8mm、60×60 mm或类似规格样品),80片/炉
样品旋转方式 公转、1-25rpm,连续可调
样品加热 室温-350度,控温精度±1%。可选高温加热器
溅射不均匀性 ±3%~±5%
溅射速率 与材料和工艺相关,可向厂家询问
样品清洗 可选配离子源清洗、射频清洗、反溅清洗模式
氧化溅射系统 可选配
氧分压闭环控制系统 可选配
磁性薄膜制备 可选配
膜厚监控系统 可选配
自动翻片组件
(用于双面溅射)
可选配
关键部件 可选配进口、国产
人机界面 Windows风格界面、触摸屏操作
操作方式 全自动方式、半自动方式
生产模式 非连续生产
请向厂家索取样本及详细技术资料
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